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氧化锆珠介质研磨制备纳米混悬剂的技术参数
来源: | 作者:珠小白 | 发布时间: 2021-09-15 | 686 次浏览 | 分享到:
研究粒径和转速以及研磨时间对尼莫地平纳米混悬剂制备的影响。制备纳米混悬剂的常用方法有沉淀法、高压均质法及介质研磨法介质研磨法生产效率高、 可控性强、重现性好,使用广泛。

纳米混悬剂是以表面活性剂或聚合物为稳定剂,将纳米尺度的药物粒子分散在水中形成的稳定胶体分散体系∞1。因其粒径极小,可显著提高药物 的饱和溶解度,增加药物的溶出速率,提高生物利用度。制备纳米混悬剂的常用方法有沉淀法、高压均质法及介质研磨法介质研磨法生产效率高、 可控性强、重现性好,使用广泛。下面我们来研究一下粒径和转速以及研磨时间对尼莫地平纳米混悬剂制备的影响。



粒径


氧化锆珠粒径 分别采用0.3和0.1 mm的氧化锆珠,转速 4 000 r/min研磨15 min。结果所得纳米混悬剂粒径 为(1 103.4士30.6)和(295.6土13.4)nm(n=3)。因此选用0.1 mm的氧化锆珠。



转速 


采用O.1 mm氧化锆珠,分别在2 500、3 500、 4 000和4 500 r/min条件下研磨15 min。所得纳米 混悬剂的粒径和PDI结果见图4。随转速增大,制 品粒径和PDI逐渐变小,但增加到4 500 r/min时粒 径反而增大,原因可能是转速过高时粒子的机械运 动加强、产热加速,使粒子聚集加速。另外,转速 越快也会使氧化锆珠之间的碰撞加剧,导致温度上 升,可能对药物的稳定性产生不利影响,且影响仪器寿命。因此,转速选择4 000 r/min。 



研磨时间 


采用0.1 mm氧化锆珠,在4 000 r/min条件下 分别研磨5、10、15、30和45 min,测定纳米混悬剂的粒径和PDI。结果见图5。随研磨时间的延长, 粒径和PDI呈现先减少后增加的趋势。研磨时间过 长,不但增加能耗,还会影响氧化锆珠的寿命。因此研磨时间定为15 min。